根据报道， Intel公司新推出一种名为“P-channel”和“N-channel”的晶体管能够将处理器的功耗降低至当前处理器产品的10％。
    Intel公司于日前公布了新材料“P-channel”晶体管的更多细节，新晶体管基于的是硅基，使用了一种名为III-V的化合物半导体。大约在一年之前Intel公司就对外描述过基于III-V 材料的“P-channel”晶体管，当时同样基于的是硅基。
    根据Intel公司的介绍当同时使用N-channel 和P-channel 两种材料之后就可以制造 CMOS电路块。并且拥有制造未来处理器产品的潜力。值得一提的就是基于新材料的处理器功耗将非常低，工作核心电压将只有当前处理器的50％，功耗只有当前晶体管的10％。
    如果这项创新能够在处理器产品上得到应用，那么这将会为我们带来体积更小、功耗更低、性能更加强大的处理器。很显然的是新材料将来还可以应用在显卡以及其他高集成度设备上。
    目前，Intel公司正在着力研究新材料的实用化。

    这到是个好消息。

要实用化还要有一段时间.期待功耗降低90%的显卡.

这是个好消息，这项创新能够为我们带来功耗低、体积小、性能更强大的处理器和显卡。

不得不承认，美仍然是最具发展潜力的国家，人类文明的标杆

10%的功耗，意味着计算机技术瞬间颠覆摩尔定律，性能马上变为原来十倍。这真是个好消息。

那么以后cpu就不需要散热风扇了，也不需要听风扇呼呼的噪音了。

引用:

原帖由 今晚打老虎 于 2009-4-7 21:50 发表
那么以后cpu就不需要散热风扇了，也不需要听风扇呼呼的噪音了。

这就太天真了，此技术一实用，Intel肯定立刻将集成度提高，然后逐次提高频率；NV立刻宣布采用新技术，性能提高10倍，功耗不变。

慢慢等吧！普及还早，还是好好的用现在比较实用的cpu吧！

就技术而言，如果成功的话是一个革命性的突破，现在的IT板块会被完全颠覆。

能源和环保问题一直是各个产业发展的方向，节能可能是未来的重头。